Новости компаний
18 июля 2007
Спрос на системы литографии вызвал рост производства компании ASML
Голландская литографическая компания ASML сообщает, что, несмотря на ожидавшийся низкий спрос производителей памяти, после интенсивных заказов в предыдущих кварталах, было получено большое количество заказов на системы литографии, что привело к увеличению отпускных цен.
«Мы видим увеличение заказов во второй половине 2007 года и подтверждаем, что в 2007 году ожидается рост прибыли компании», говорит Эрик Мюрис (Eric Meurice), президент и исполнительный директор ASML. У компании наблюдалось падение продаж с 960 млн. евро в первом квартале 2006 года и 942млн. евро во втором квартале 2006 года до уровня 935млн.евро во втором квартале 2007 года. Чистый доход во втором квартале 2007 года составил 161млн. евро против 153млн. евро в предыдущем квартале и 167млн. евро во втором квартале предыдущего года. Средняя отпускная цена компании за новое оборудование также выросла во втором квартале до 12,7млн. евро по сравнению с 12,5млн. евро в первом квартале. Однако, средняя отпускная цена за последние 22 новые заказанные системы составила 16,9 млн. евро, что является рекордной средней отпускной ценой для компании, отражающей растущий интерес к иммерсионным системам. «Более двух миллионов подложек были обработаны на иммерсионном оборудовании ASML на текущий момент, при этом половина из этого количества в последнем квартале, подтверждая, что иммерсионная технология используется в производстве во всевозрастающем объеме. Рост признания иммерсионный технологии ASML подтверждается повторными заказами многочисленных японских клиентов».
По заявлениям компании второй квартал стал серьезным испытанием, но на настоящий момент объем заказанного оборудования оценивается в 1,7 млрд. евро.
Компания ASML также начала поставлять свое иммерсионное оборудование с разрешающей способностью 36,5нм и собирается начать первые поставки TWINSCAN XT:1900i в начале июля.
«Производство XT:1900i неуклонно растет с размещением многочисленных заказов на него, и поставки систем будут выполнены до конца года для большинства мировых лидеров в производстве устройств.»
Литографические системы с разрешающей способностью 36,5нм используют жидкость, расположенную между линзой и кремниевой подложкой, позволяя производителям кристаллов выполнять более мелкие элементы, чем при использовании источников света с той же длиной волны.
Информация с сайта www.electronicsweekly.com.
|
